通過在膠帶基材的薄膜表面添加各種功能、且能適應特定應用的表面，可生產(chǎn)出具有多種特性的薄膜產(chǎn)品。具體來說有多種技術(shù)，本文著重講下如何提高薄膜表面導電性：
提高導電性技術(shù)
真空條件下，在膜表面形成導電性納米級薄膜的技術(shù)，應用于柔性印制電路板、觸摸板透明導電薄膜等產(chǎn)品。濺射沉積技術(shù)
在氬氣中對目標施加高壓時，便會形成 Ar+ 和電子組成的等離子體。 Ar+ 在電場中加速，會對目標產(chǎn)生影響，最終噴射出目標物質(zhì)。 有些情況下，噴射出的原子會直接沉淀到基膜上，而另一些情況下，如果如氧氣等活性氣體混入氬氣中時，則會沉淀出包含目標物質(zhì)和氧氣的化合物。 ITO 透明導電膜便屬于后一種，通過補充 In2O3-SnO2 目標物質(zhì)中的氧氣（在分解過程中失去）形成。
